特征:
硅(Si)通过 Czochralski(CZ)提拉生长,由于包含一些氧化物,导致9微米波段有吸收。 为了避免这种情况,可以通过Float-Zone(FZ)提拉生长材料。 光学硅一般是少量掺杂(5至40欧姆厘米)以获得10微米以上的最佳透射率,通常掺杂是硼(P型)和磷(N型)。 掺杂之后,硅具有另一个通带:30至100微米,其仅在非常高电阻率未补偿材料中有效。
CZ硅通常用作1.5-8微米区域的红外反射器和窗口的基板材料。 由于9微米的强吸收带使其不适用于CO2激光传输应用,但由于其高导热性和低密度,它经常用于激光反射镜。
硅材质主要用于加工硅窗口片,硅透镜,应用波段为1.5-7um。硅反射镜用于CO2激光器和光谱仪。
硅窗口片注意事项:
1、可定制任何尺寸的硅(Si)窗口片。除圆形外,还可提供方形、三角形或其他多边形的硅(Si)窗口片。
2、可根据要求提供1.0mm至80.0 mm的其他厚度。
3、可据要求提供更好的倒边。
4、增透膜,高反膜,部分反射膜的窗片也能提供。
主要参数
材料:硅(Si)
倒边: 保护性 (<0.2mm x 45° )
镀膜: 可根据客户要求
要求 | 标准 | 高精度 |
直径公差 | +0.0/-0.2 | +0.0/-0.02 |
厚度公差 | ±0.2 | ±0.05 |
光洁度 | 60-40 | 10-5 |
有效孔径 | >85% | >90% |
面型 | λ /2 | λ/10 |
平行度 | 3 min | 10 sec |
粗糙度 | 10 | 3 |
主要尺寸
圆形 Φ5.0; Φ10.0 ; Φ12.7; Φ15.0; Φ20.0;
直径(mm): Φ25.4; Φ30.0; Φ38.1; Φ50.8; Φ76.2
方形: 5.0x5.0 ; 10.0x10.0 ; 15.0x15.0 ;
边长(mm): 20.0x20.0; 25.0x25.0; 50.0x50.0
厚度(mm): 0.5; 1.0; 1.5; 2.0; 3.0;
4.0; 5.0; 6.0; 8.0; 10.0